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科研条件

  1、 重点仪器设备

 

设备名称

JPG560型超高真空镀膜机

用途说明

利用磁控溅射法制备无机薄膜

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设备名称

旋转式光刻机

用途说明

采用转盘旋转的方式,可以高速、大面积刻写微纳结构。

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设备名称

X-Y直写式光刻机

用途说明

在薄膜材料上刻写具有任意结构的微纳图形

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设备名称

XP-200 型台阶仪

用途说明

用于测量旋涂光刻胶及各种薄膜的表面粗糙度,沟槽特征结构的轮廓、台阶高度及宽度

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设备名称

原子力显微镜(扫描力显微镜)

用途说明

用来研究包括绝缘体在内的固体表面结构,可以实现纳米级超高分辨率的扫描探针显微镜。

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设备名称

椭偏仪

用途说明

椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。由于测量精度高,适用于超薄膜,与样品非接触,对样品没有破坏且不需要真空。

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设备名称

共聚焦显微镜

用途说明

用于实现高分辨率成像,涉及生物学,材料学,光学等多个领域。激光扫描共聚焦显微镜利用激光束经照明针孔形成点光源对标本内焦平面的每一点扫描,标本上的被照射点,在探测针孔处成像,由探测针孔后的光电倍增管(PMT)或冷电耦器件(cCCD)逐点或逐线接收,迅速在计算机监视器屏幕上形成荧光图像。

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